一、性能指标：

   ⑴杂 质 含 量  ： Al、Fe、Li、Na、K，总量＜3 ppm；

   ⑵紫外线透过率 ：（d=2.3mm、g=200～600）≥ 90　%；

   ⑶膨胀系数：     （20～200℃） a=4.8×10-7；

   ⑷抗腐蚀性能   ： 除HF酸和300℃以上H3PO4酸外，

                     不受其它酸侵蚀。

 规格：      2.5″×2.5″～5″×5″。

 用途：    主要用于大规模集成电路和超大规模集成电路生产中的光 

                 刻掩模基板。

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